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簡(jiǎn)要描述:MP—1B金相試樣磨拋機在金相試樣制備過(guò)程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過(guò)磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。
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一、產(chǎn)品概述
MP—1B金相試樣磨拋機在金相試樣制備過(guò)程中,試樣的磨、拋光是的工序,試樣經(jīng)過(guò)磨拋后,可獲得光亮如鏡的表面。MP—1B金相試樣磨拋機采用了變頻器調速,可使磨拋盤(pán)的轉速在50-1000r/min之間無(wú)極可調,通過(guò)更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序,展現了更廣泛的應用性。殼體采用整體吸塑,外觀(guān)新穎,具有轉動(dòng)平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點(diǎn),并自帶冷卻裝置,可以在磨拋時(shí)對試樣進(jìn)行冷卻,以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。適用于工廠(chǎng)、大專(zhuān)院校、科研單位的金相試驗室,是金相試樣磨拋光的設備。
二、主要功能和特點(diǎn)
1、殼體采用ABS一體成型,外觀(guān)新穎,大氣上檔次。
2、水龍頭采用全銅鍍鉻工藝,防腐蝕性好。
3、無(wú)極調速,方便快捷滿(mǎn)足多種需求。
4、磨拋盤(pán)可以進(jìn)行順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉,適應不同需要。
技術(shù)參數
磨盤(pán)直徑 | 標配φ203mm(其它規格定制) |
磨盤(pán)轉速 | 50-1000r/min(無(wú)極調速) |
磨拋盤(pán)旋轉方向 | 正反轉 |
電源 | 電壓:220V 頻率:50HZ |
電機 | 0.55KW |
外形尺寸 | 730×420×320mm |
重量 | 35Kg |
配置清單
產(chǎn)品附件 | 單位 | 數量 | 備注 |
磨拋盤(pán) | 個(gè) | 1 | 已安裝在設備上 |
擋水圈 | 個(gè) | 1 | 已安裝在設備上 |
壓圈 | 個(gè) | 1 | 已安裝在設備上 |
水砂紙 | 張 | 1 | Φ203mm |
拋光織物 | 張 | 1 | Φ203mm |
進(jìn)水管 | 根 | 1 | 6分接口 |
出水管 | 根 | 1 | Φ32 |
技術(shù)文件 | 1.產(chǎn)品說(shuō)明書(shū)1份 2.產(chǎn)品合格證1份 |
金相試樣磨拋機的使用細節:
設備了解:使用前,用戶(hù)應該仔細閱讀設備說(shuō)明書(shū),了解設備的結構、工作原理、操作步驟及安全注意事項。熟悉各個(gè)部件的功能,例如研磨盤(pán)、拋光盤(pán)、冷卻系統、力度調節裝置等。
準備工作:在開(kāi)始使用磨拋機前,應確保工作臺面干凈整潔,檢查電源線(xiàn)是否安全可靠,并確保磨拋機處于良好的工作狀態(tài)。準備好所需的砂紙、拋光布、拋光液和其他輔助工具。
樣品準備:根據所要觀(guān)察的材料類(lèi)型和目的,選擇合適的樣品尺寸和形狀。通常需要將樣品切割成小塊,以便于握持和磨拋。對于某些特殊材料可能需要特殊的夾具。
粗磨:使用較粗糙的砂紙對樣品進(jìn)行初步打磨。這一步驟的目的是快速去除表面的不規則和劃痕,但不要太用力以避免損壞樣品。
中磨:隨著(zhù)樣品表面逐漸平整,可以逐步使用細一些的砂紙。中磨的目的是進(jìn)一步平滑表面,減少粗磨留下的痕跡。
細磨:當樣品表面較為平滑后,使用更細的砂紙進(jìn)行細磨。這一步是為了讓表面更加細膩,為最終的拋光打下良好基礎。
拋光:細磨完成后,使用專(zhuān)用的拋光布和拋光液進(jìn)行最終的拋光工作。拋光時(shí)要注意均勻施力,保持樣品與拋光盤(pán)的接觸面積,避免局部過(guò)熱或不均勻磨損。
清潔:每次磨拋后,應及時(shí)清理磨拋機上的殘留物,包括砂粒、拋光液和其他雜質(zhì)。這有助于維護設備的性能和延長(cháng)使用壽命。
觀(guān)察與評估:拋光完成后,使用顯微鏡或其他檢測設備對樣品表面進(jìn)行觀(guān)察,評估是否滿(mǎn)足分析要求。如果發(fā)現有缺陷或不滿(mǎn)意的地方,可能需要重新磨拋。
安全操作:在整個(gè)操作過(guò)程中,應始終遵守安全操作規程,佩戴必要的防護裝備,如手套、護目鏡等。確保磨拋機運轉時(shí)不要將手或其他物體伸入旋轉的盤(pán)中。
維護保養:定期進(jìn)行保養,檢查機械部件的緊固情況,潤滑移動(dòng)部分,更換磨損的部件。正確的維護能夠保證設備的長(cháng)期穩定運行。
記錄與反饋:在使用過(guò)程中,記錄下操作條件、使用的耗材以及樣品的處理結果,這些信息對于后續的實(shí)驗復現和質(zhì)量控制非常有幫助。
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